Journals / Gazi Üniversitesi Mühendislik Mimarlık Fakültesi Dergisi / 2018 / Cilt: 33 - Sayı: 1

silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi

Pages
0–0
Publication Date
2018-03-08
DOI
—
🏛️Bibliographic metadata and full text access for this article are provided via DergiPark.
DergiPark Record ↗
✨

AI Summary & Key Takeaways

AI Insight
⚡ TL;DR(Too Long; Didn't Read)

Temiz (0 0 1) silika yüzeyinde nano ölçek çizgi gerilimi etkisi altında ölçülen ıslanma açısının deneysel silika ıslanma açısı aralığında olduğu bulundu.

📌 3 Key Takeaways

🎯
Objective & Hypothesis:Yeni üretim tekniklerine paralel olarak nano-boyutlu teknolojiler çok geniş bir uygulama alanında kullanılmaya başlanmakta ve yeni uygulamalar geliştirmek için keşfedilmesi ve anlaşılması gereken konular süratle artmaktadır.
📊
Key Findings & Data:Literatürde işlem yükünü azaltmak için sıklıkla uygulanan, katı yüzey termal titreşimlerinin ıslatmaya olan etkisinin ihmal edilmesi ve modellenmemesinin ıslatma açısına olan etkisi incelendi.
💡
Conclusion & Impact:Temiz (0 0 1) silika yüzeyinde nano ölçek çizgi gerilimi etkisi altında ölçülen ıslanma açısının deneysel silika ıslanma açısı aralığında olduğu bulundu.
🔬Design:Survey & Empirical Study
📍Scope:Comprehensive Sample
⚙️Variables:Moleküler dinamik · silika · ıslatma açısı

Özet

Yeni üretim tekniklerine paralel olarak nano-boyutlu teknolojiler çok geniş bir uygulama alanında kullanılmaya başlanmakta ve yeni uygulamalar geliştirmek için keşfedilmesi ve anlaşılması gereken konular süratle artmaktadır. Bu doğrultuda, yeni uygulamalarda sıkça yer bulan silikon ve silikon-dioksitin mikro/nano boyutlardaki malzeme özelliklerinin anlaşılmasına büyük ihtiyaç oluşmaktadır. Özellikle bu yüzeylerin ıslanma hareketlerinin anlaşılabilmesi ve hatta kullanılacak uygulamaya göre ayarlanabilmesi sayısız uygulama için önem arz etmektedir. Bu nedenlerle, nano-teknolojide sıkça kullanılan silikon-dioksit malzemesini ve su moleküllerini, nano-ölçeklerde moleküler olarak modellenmesi bu çalışmada gerçekleştirildi. Modelleme molekuler dinamik hesaplamaları ile yapildi. Silikon-dioksit yüzey üzerinde nano su damlacıkları olusturup, denge halinde oluşan ıslatma açısı ölçümleri yapildi. Literatürde işlem yükünü azaltmak için sıklıkla uygulanan, katı yüzey termal titreşimlerinin ıslatmaya olan etkisinin ihmal edilmesi ve modellenmemesinin ıslatma açısına olan etkisi incelendi. Katı moleküllerin termal titreşimlerinin ıslatma modellenen ıslatma fiziğine baskın bir etkisi olduğu görüldü. Geçtiğimiz yillarda doğa taklidi olarak bilinen çalışma çevreleri tarafından hayata geçirilmeye çalışılan Lotus yaprağı etkisi temelli yüzey ıslatma kontrolu moleküler seviyede uygulandı. Yüzey üzerinde oluşturulan nano boyutlardaki yüzey yapılarının ıslanma açısını değiştirebildiği gösterildi. Temiz (0 0 1) silika yüzeyinde nano ölçek çizgi gerilimi etkisi altında ölçülen ıslanma açısının deneysel silika ıslanma açısı aralığında olduğu bulundu.

🔖

Cite This Article

BARİSİK, M. (2018). silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi. Gazi Üniversitesi Mühendislik Mimarlık Fakültesi Dergisi, Cilt: 33 - Sayı: 1, 0–0. https://ajindex.com/articles/20134

📄 Full Text PDF Viewer

📄

PDF görüntüleyici hazırlanıyor...

References (13)

  1. Kim, B. S., Shin, S., Shin, S. J., Kim, K. M.,Cho, H. H., Micro-nano hybrid structures with manipulated wettability using a two-step silicon etching on a large area, Nanoscale research letters, 6(1), 1-10, 2011.
  2. Haller, I., Covalently attached organic monolayers on semiconductor surfaces, Journal of the American Chemical Society 100(26), 8050-8055, 1978.
  3. Zorba, V., Persano, L., Pisignano, D., Athanassiou, A., Stratakis, E., Cingolani, R., Tzanetakis, P., Fotakis, C., Making silicon hydrophobic: wettability control by two-lengthscale simultaneous patterning with femtosecond laser irradiation, Nanotechnology, 17(13), 3234, 2006.
  4. Qiu, Y., Chen, Y., Liu, L., Zhao, G., Water and ion distributions in a silicon nanochannel: a molecular dynamics study Proceedings of the Institution of Mechanical Engineers, Part N: Journal of Nanoengineering and Nanosystems, 226(1), 31-34, 2012.
  5. Chai, J., Liu, S., Yang, X., Molecular dynamics simulation of wetting on modified amorphous silica surface, Applied surface science, 255(22), 9078-9084, 2009.
  6. Yao, H., Dai, Y., Feng, J., Wei W., Huang W., Graft and characterization of 9-vinylcarbazole conjugated molecule on hydrogen-terminated silicon surface, Applied Surface Science, 253(3), 1534 – 1539, 2006.
  7. Bhushan, B., Jung, Y. C., Koch, K., Micro-nano-and hierarchical structures for superhydrophobicity, self-cleaning and low adhesion Philosophical Transactions of the Royal Society of London A: Mathematical, Physical and Engineering Sciences, 367(1894), 1631-1672, 2009.
  8. Yen, T.H., Wetting characteristics of nanoscale water droplet on silicon substrates with effects of surface morphology, Molecular Simulation, 37(9), 766-778, 2011.
  9. Barisik, M., Beskok, A. Wetting characterisation of silicon (1, 0, 0) surface, Molecular Simulation, 39(9), 700-709. 2013.
  10. Young, T., An Essay on the Cohesion of Fluids Philosophical Transactions of the Royal Society of London, 95, 65-87, 1805. Brinkmann, M., Kierfeld, J., Lipowsky, R., A general stability criterion for droplets on structured substrates Journal of Physics A: Mathematical and General, 37(48), 11547, 2004.
  11. Wang, J. Y., Betelu, S., Law, B. M., Line tension approaching a first-order wetting transition: Experimental results from contact angle measurements Physical Review E, 63, 31601, 2001.
  12. Wenzel, R. N., Resistance of Solid Surfaces to Wetting by Water, Industrial & Engineering Chemistry, 28(8), 988-994, 1936.
  13. Cassie, A. B. D., Baxter, S., Wettability of porous surfaces Transactions of the Fara