Dergiler / Süleyman Demirel Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Dergisi / 2019 / Cilt: 23 - Sayı: 3
Silisyum Uygulamasının Bor Stresi Altındaki Buğday Üzerindeki Etkisi
- Sayfa
- 743–747
- DOI
- —
Özet
Bu araştırmada, bor (B) stresi altındaki buğday bitkisinde farklı silisyum (Si) konsantrasyonlarının (0.75, 5, 10 mM) etkisi, doku uzunluğu, malondialdehit (MDA), iyon sızıntısı, bağıl su içeriği (RWC) ve toplam klorofil içeriği gibi bazı stres göstergeleri aracılığıyla incelenmiştir. Silisyumun stres azaltıcı etkisi membran hasarının iyileştirilmesi ile MDA ve iyon sızıntısı seviyelerinin pozitif düzenlenmesi üzerinde gözlenmiştir. Bor (B) stresi nedeniyle gövde dokularında nekroz meydana gelmesine rağmen silisyum uygulamasının sürgün ve kök uzunlukları üzerinde önemli bir değişiklik gerçekleştirmediği gözlemlenmiştir. Ancak tam aksine bağıl su içeriği (RWC), bor stresi altında silisyum uygulanması ile pozitif olarak değişmiştir. Ayrıca silisyum ve bor stresinin (Si+B) birlikte uygulandığı setlerde silisyum, bağıl su içeriğini kontrol bitkilerindeki seviyelere kadar artırmaktadır. Toplam klorofil içeriği 0.75 ve 5 mM silisyum varlığı ile artarken 10 mM silisyumun bor stresi altında klorofil içeriğine herhangi bir etkisi olmamıştır. Genel olarak, silisyumun buğday üretiminde bor stresini azaltıcı bir potansiyele sahip olduğu bulunmuştur.
Abstract
In this study, effects of different silicon (Si) concentrations (0.75, 5, 10 mM) on wheat under boron(B) stress, investigated by means of some stress indicators such as tissue length, malondialdehyde (MDA), ion leakage, relative water content (RWC) and total chlorophyll content. Stress mitigating effects of silicon were observed mainly as reductions on membrane damage with reduced MDA concentrations and decreased ion leakage levels. Although necrosis was present on shoot tissues due to the boron stress, no significant change observed on shoot and root length with the application of Si. On the contrary, relative water content (RWC) has changed positively with the implementation of Si under boron stress. Furthermore Si has enhanced RWC level in Si+B co-applicated sets to the level of control plants. Total chlorophyll content increased with the existance of 0.75 and 5 mM Si, while 10 mM Si had no effect on the chorophyll content under boron stress. Overall, silicon was found to have a potential to alleviate boron stress in wheat production.