Dergiler / Mühendis ve Makina / 2004 / Cilt: 45 - Sayı: 528
Plazma ortamında iyon aşılama yöntemi (PIII-$PI^3$ ), genel prensipleri ve uygulama alanları
- Dergi
- Mühendis ve Makina
- Sayfa
- 17–22
- DOI
- —
Özet
Plazma Ortamında İyon Aşılama $(Pl^3)$ geleneksel iyon aşılama ile plazma nitrürleme tekniklerinin avantajlarını bir araya toplayan yeni bir teknolojidir. Yüksek enerjili iyon bombardımanın termal difüzyonla desteklenmesi, daha derin modifiye edilmiş tabaka oluşumu sağlamaktadır. Bu makalede, $Pl^3$ yönteminin genel prensipleri, geleneksel iyon aşılama ile plazma nitrürlemeden ayrıldığı noktalar irdelenmiş ve yöntemin uygulama alanları hakkında bilgi verilmiştir.
Abstract
Plasma immersion ion implantation $(Pl^3)$ is a new hybrid technology using elements of conventional ion implantation as well as plasma nitriding. In addition to the high energetic ion bombardment, thermal diffusion enables to obtain thicker modified layers. This paper gives an overview about the general principles of $Pl^3$, the differences than conventional ion implantation and plasma nitriding and its application areas.