KaydedilenlerDerginizi ekleyin

Dergiler / Mehmet Akif Ersoy Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Dergisi / 2021 / Cilt: 12 - Sayı: 2

İnce Film Üretiminde Kimyasal Buhar Biriktirme Yöntemi ve Çeşitleri

Chemical Vapor Deposition Method and Types in Thin Film Production

Ayşegül ÇOŞĞUN
Ayşegül TAŞÇIOĞLU
Gökhan YILMAZ
Sayfa
351–363
Yayın Tarihi
2021-12-01
DOI
—
🏛️Bu makalenin bibliyografik verileri ve tam metin bağlantısı DergiPark üzerinden sağlanmıştır.
DergiPark Kaydı ↗
✨

Yapay Zeka Hızlı Bakış & Çıkarımlar

AI Insight
⚡ TL;DR(1 Cümlede Hızlı Çıkarım)

Bu çalışmada ise kimyasal buhar biriktirme yöntemleri araştırılarak yöntemlerin avantajlı ve dezavantajlı olduğu parametreler belirlenmiştir.

📌 3 Maddede Bu Makale

🎯
Amaç & Hipotez:İnce film teknolojisi hemen her sektörde özellikle de elektronik cihaz sektöründe yaygın olarak kullanılmaktadır.
📊
Temel Bulgular & Veri:Bu yönteme bağlı olarak da farklı tasarımlar üzerine çalışmalar yapılmıştır.
💡
Sonuç & Katkı:Bu çalışmada ise kimyasal buhar biriktirme yöntemleri araştırılarak yöntemlerin avantajlı ve dezavantajlı olduğu parametreler belirlenmiştir.
🔬Tür:Araştırma Makalesi
📍Kapsam:Genişletilmiş Akademik Örneklem
⚙️Değişkenler:İnce film · ince film üretim tekniği · kimyasal buhar biriktirme

Özet

İnce film teknolojisi hemen her sektörde özellikle de elektronik cihaz sektöründe yaygın olarak kullanılmaktadır. İnce filmlerin tercih edilmesindeki en büyük etken üretimine bağlı olarak morfolojik yapısının ayarlanabilir olması, stokiyometrisinin kontrol edilebilmesi ve homojenliğidir. Bu sebeple ince film üretim teknikleri büyük önem arz etmektedir. Bu özellikleri elde etmek için en çok kullanılan yöntem kimyasal buhar biriktirme (KBB) yöntemidir. Bu yönteme bağlı olarak da farklı tasarımlar üzerine çalışmalar yapılmıştır. Bu çalışmada ise kimyasal buhar biriktirme yöntemleri araştırılarak yöntemlerin avantajlı ve dezavantajlı olduğu parametreler belirlenmiştir.

Abstract

Thin film technology is widely used in almost every sector. Especially it is used in the electronic device industry. The most important factor in preferring thin films is that their morphological structure can be adjusted depending on their production, their stoichiometry can be controlled and their homogeneity. For this reason, thin film production technique is really important. The most commonly used method to obtain these properties is the chemical vapor deposition method. Depending on this method, studies have been made on different designs. In this study, chemical vapor deposition (CVD) method and its types were investigated and it was aimed to compare the methods.

🔖

Bu Makaleye Atıf Yap

ÇOŞĞUN, A., TAŞÇIOĞLU, A., YILMAZ, G. (2021). İnce Film Üretiminde Kimyasal Buhar Biriktirme Yöntemi ve Çeşitleri. Mehmet Akif Ersoy Üniversitesi Fen Bilimleri Enstitüsü Dergisi, Cilt: 12 - Sayı: 2, 351–363. https://ajindex.com/articles/790117

📄 Tam Metin PDF Okuyucu

📄

PDF görüntüleyici hazırlanıyor...

Kaynakça (13)

  1. Bohm, J., R. A. Laudise (1972). In The Growth of Single Crystals. Kristall Und Technik, 7(1–3): K17-K18. Cibert, C., Hidalgo, H., Champeaux, C., Tristant, P., Tixier, C., Desmaison, J., Catherinot, A. (2008). Properties of aluminum oxide thin films deposited by pulsed laser deposition and plasma enhanced chemical vapor deposition. Thin Solid Films 516: 1290-1296.
  2. Corboy, J. F., Pagliaro, R. (1983). Investigation of The Factors That Influence The Deposit/Etch Balance In A Radiant-Heated Silicon Epitaxial Reactor. R.C.A. Review, 44(2): 231–249.
  3. Crowell, J. E. (2003). Chemical methods of thin film deposition: Chemical vapor deposition, atomic layer deposition, and related technologies. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 21(5): 88–95.
  4. Devi A., Beranek, R., Eichberger, R., Toroker, M.C., Nagli, M., Mitoraj, M., Friedrich, D., Müller, S., Hirst, J., Schütz, H.M., Becker, H., Rogalla, D., Cwick, S., Sadlo, A., Mai, L., Reyes, Q.M, Peeters, D. (2018). CVD-Grown Copper Tungstate Thin Films For Solar Water Splitting. Journal of Materials Chemistry A 6: 10206-10216.
  5. Doppelbauer, J., Baeuerle, D. (1986). Kinetic Studies of Pyrolytic Laser-Induced Chemical Processes. 1986
  6. Editions de Physique, Conference Proceedings 53-56.
  7. Evans, G. H. (1991). Design and Verification of Nearly Ideal Flow and Heat Transfer in a Rotating Disk Chemical Vapor Deposition Reactor. Journal of the Electrochemical Society, 138(6): 1806-1816.
  8. Eversteyn, F. C., Severin, P. J. W., Brekel, C. H. J. V. D., Peek, H. L. (1970). A Stagnant Layer Model for the Epitaxial Growth of Silicon from Silane in a Horizontal Reactor. Journal of the Electrochemical Society 117(7): 1-925.
  9. Flinn, R. A., Trojan, P. K. (1981). Engineering Materials and Their Applications. In Manufacturing Technology. CRC Press, 90-123.
  10. Hintermann, H. E., Perry, A. J., Horvath, E. (1978). Chemical vapour deposition applied in tribology. Wear 47(2): 407–415.
  11. Holland, L. (1956). A New Apparatus for Cathodic Sputtering. Nature 177: 1229. Karimi, M., Ghasemi, A., Mirkiani, S., Moosavi, S. M., Moosavi Basri, S. M., Hamblin, M. R. (2017). Carbon Nanotubes in Drug and Gene Delivery. In Carbon Nanotubes in Drug and Gene Delivery. IOP Publishing. Kern, W., Vossen, J. L. (2012). Thin Film Processes II. In Thin Film Processes II. Elsevier, 1-866.
  12. Kobayashi, M., Hoshinouchi, S. (1990). Introduction to chemical vapor deposition. Boshoku Gijutsu, 39(10): 576–581.
  13. Kumar, J.R., Vivek, S., Jyoti, S., Sushobhan, A., Na