Sİ3N4-BN KOMPOZİT TOZ SENTEZİNDE MEKANİK AKTİVASYONUN Sİ3N4 FAZ OLUŞUM KİNETİĞİNE ETKİSİ

Özet

Silisyum nitrür (Si3N4) seramikler, yüksek sertlik, iyi mekanik dayanım, üstün korozyon direnci ve yüksek sıcaklıklara karşı iyi direnç göstermeleri nedeniyle, hem termo mekanik hem de elektronik uygulama alanlarında büyük önem kazanmıştır. Bu çalışmada Si3N4 matrisinin işlene bilirliğini arttırmak amacıyla, Si3N4 matrisine dağıtılmış ince bor nitrür (BN) yapıları kombine bir şekilde üretilmiştir. Si3N4 - BN matrisinin konvensiyonel üretim teknikleri ile üretilmesinin maliyetli olması sebebiyle bu çalışmada karbotermal indirgeme ve nitridasyon (KTİN) yöntemi kullanılmıştır. Farklı şartlarda mekanik aktivasyon yapılarak aktive edilen tozlar kullanılarak KTİN reaksiyon sonucu sentezlenen tozlara yapılan XRD analizleri, yapının Si3N4 ve BN fazlarından müteşekkil olduğunu göstermiştir. Tane morfolojisi belirlemek için yapılan SEM analizi ise ince BN tanelerinin homojen bir şekilde Si3N4 matrisine dağılımının başarıldığı ortaya koymuştur.