Dark And Photoconductivity Behavior of CH3NH3PbI3 Thin Films Depending On Atmospheric Conditions

Atmosferik Koşullara Bağlı Olarak CH3NH3PbI3 İnce Filmlerin Karanlık ve Fotoiletkenlik Davranışı

Abstract

Methylammonium lead iodide (MAPbI3) (CH3NH3PbI3) has great potential for several fields, especially for photovoltaic applications. Unfortunately, MAPbI3 can seriously suffer from degradation. Hence, the degradation problem limits the photovoltaic and other potential applications of this material. In order to produce a stable photovoltaic material, the degradation mechanism and electronic defect profile of MAPbI3 should be understood carefully, especially regarding its conductivity. In this study, electronic defect changes due to stress factors were evaluated. MAPbI3 films were deposited using thermal chemical vapor deposition (Thermal CVD) and spin coating techniques. Morphological differences due to deposition temperatures were defined by using scanning electron microscopy (SEM). Elemental analysis and structural analysis were conducted by energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDS) and X- ray diffraction (XRD), respectively. Deposited MAPbI3 films were exposed to in-situ stress factors such as vacuum atmosphere, deionized water vapor (DIWV) atmosphere, and UV light soaking at constant temperature (300 K) in order to define degradation and electronic defect changes. The electronic changes in the samples were investigated by time-dependent dark conductivity, temperature-dependent dark conductivity, and flux-dependent photoconductivity. This study provides an in-depth understanding of the degradation mechanism and electronic defect profile of MAPbI3 regarding its conductivity.

Özet

Metilamonyum kurşun iyodür (MAPbI3) (CH3NH3PbI3), başta fotovoltaik uygulamalar olmak üzere birçok alanda büyük potansiyele sahiptir. Ne yazık ki, MAPbI3 ciddi şekilde bozunmadan muzdariptir. Bozunma sorunu, bu malzemenin fotovoltaik ve diğer potansiyel uygulamalarını sınırlandırmaktadır. Kararlı fotovoltaik malzeme üretebilmek için MAPbI3'ün bozunma mekanizması ve elektronik kusur profilinin iletkenlik tarafında dikkatli bir şekilde anlaşılması gerekir. Bu çalışmada stres faktörlerinden kaynaklı elektronik kusur değişimleri incelenmiştir. MAPbI3 filmler, termal kimyasal buhar biriktirme (Termal CVD) ve döndürmeli kaplama yöntemleri ile büyütülmüştür. Büyütme sıcaklıklarından kaynaklanan morfolojik farklılıklar, taramalı elektron mikroskobu (SEM) ile belirlenmiştir. Element analizler ve yapısal analizler, sırasıyla, enerji dağılımlı X-ışını spektroskopisi (EDS) ve X-ışını kırınımı (XRD) ile yapılmıştır. Depolanan MAPbI3 filmleri, bozunma ve elektronik kusur değişikliklerini tanımlamak için vakum atmosferi, deiyonize su buharı (DIWV) atmosferi ve sabit sıcaklıkta (300 K) UV ışığı ile yaşlandırma gibi tek stres faktörlerine maruz bırakılmıştır. Numunelerin elektronik değişiklikleri zamana bağlı karanlık iletkenlik, sıcaklığa bağlı karanlık iletkenlik ve ışık akısına bağlı fotoiletkenlik ile incelenmiştir. Bu çalışma, iletkenlik tarafında MAPbI3'ün bozunma mekanizması ve elektronik kusur profili hakkında derinlemesine bir anlayış sağlamaktadır

Keywords: Metilamonyum kurşun iyodür, termal CVD, döndürerek kaplama, elektronik kusurlar, yarı-kararlılık