THIN FILM DEPOSITION OF HYDROXYAPATITE (HAp) ON Ti–6Al–4V WITH PULSED LASER DEPOSITION (PLD)

DARBELİ LAZER BİRİKTİRME (PLD) İLE Ti-6Al-4V ÜZERİNE HİDROKSİAPATİTİN (HAp) İNCE FİLMLERİNİN HAZIRLANMASI

Abstract

This study aimed to grow hydroxyapatite thin film on Ti-6Al-4V, which is used in biomedical applications as implant material.HAp thin films deposited by pulsed laser deposition (PLD) technique. Sanding of the substrate, deposition temperature (500°C and 650°C), deposition gases (argon, oxygen and nitrogen), humectation of deposition gas and annealing after deposition were investigated to optimize thin films and the other variables were fixed. Grazing Incidence X-ray Diffraction (GIXRD), Scanning Electron Microscope (SEM) and Fourier Transform Infrared (FTIR) Spectroscopy were used for characterization of the obtained thin films. It is concluded that the thin film prepared at 650°C in humidified Ar atmosphere, has shown the best results to be used in biomedical applications because of its HAp concentration and suitable adsorption.

Özet

Bu çalışmada; biyomedikal uygulamalarda implant malzemesi olarak kullanılan Ti-6Al-4V üzerine hidroksiapatit (HAp) ince filmlerinin büyütülmesi amaçlanmıştır. HAp ince filmlerin büyütülmesinde darbeli lazer biriktirme (PLD) tekniği kullanılmıştır. Alttaşın zımparalanması, kaplama sıcaklığı (500°C ve 650°C), kaplama gazı (argon, oksijen ve nitrojen), kaplama gazının nemlendirilmesi ve kaplama sonrası tavlama işlemlerinin HAp ince film üzerindeki etkileri araştırılarak optimize edilmesi amaçlanmış ve diğer değişkenler sabitlenmiştir. Elde edilen kaplamaların karakterizasyonu için Sıyırma Açısında X-Işını Kırınımı (GIXRD), Taramalı Elektron Mikroskobu (SEM) ve Fourier Dönüşümlü Kızılötesi (FTIR) Spektroskopisi kullanılmıştır. 650°C’de nemlendirilmiş Ar atmosferinde hazırlanan ince filmin HAp yoğunluğu ve yüzeyinin tutunmaya uygun olması nedeniyle biyomedikal uygulamalar için en başarılı sonucu verdiği sonucuna varılmıştır