DC Magnetron Püskürtme Yöntemi ile Ag İnce Filmlerin Geliştirilmesi: Çok İnce Pt Ara-katmanın Rolü

Özet

Bu çalışmada, ince (~ 10 nm) Ag filmleri cam alttaşlar üzerine farklı sürelerde DC magnetron püskürtme yöntemi ile kaplandı. Ayrıca Ag’nin cam yüzeyine tutunması ve iletkenliğinin iyileştirilmesine destek olması hedefi ile çok ince (~ 2 nm) Pt ara-katmanı cam yüzeyine püskürtülerek Ag/Pt/cam numuneleri üretildi. Analiz sonuçlarından, hazırlanan her bir filmin kübik yapıda, < 1 nm yüzey pürüzlülük değerine ve 5 ohm/kare’den daha düşük yüzey direncine sahip olduğu belirlendi. Ag(9nm)/Pt(2nm)/cam numunesinin 3.02 ohm/kare’lik yüzey direnci ve 0.596 nm’lik RMS yüzey pürüzlülüğü değeri ile diğer hazırlanan numunelere göre daha iyi elektriksel ve morfolojik özelliklere sahip olduğu görüldü. Pt ara-katman oluşturulmasının Ag filminin iletkenliğini artırması yanında kızılötesi yansıtıcılığını da artırdığı gözlendi.